복잡한대량생산반도체제조공정에는첨단광학및극자외선레티클이필요합니다。레티클결함이나패턴배치오류는생산웨이퍼의수많은다이에반복적으로적용되어,반도체디바이스의수율을크게감소시킬수있으므로,레티클에는반드시오류가없어야합니다。수율의손실로이어질수있는레티클결함과패턴편차를식별하기위하여마스크제조과정중에는여러가지레티클검사,계측,리뷰단계가필요합니다。여기에서어려운점은마스크제조시설의엔지니어들이적절한프로세스교정을수행하거나레티클의위치를정확하게처리할수있도록하기위하여,이처럼다양하고수많은데이터를엔지니어들이활용할수있는결과물로가공하는것입니다。

解放军의十字线决策中心(RDC)플랫폼의새로운KlearView™은더빠른의사결정을내릴수있도록모든레티클검사와계측데이터를통합합니다。

데이터중앙집중화．레티클의품질을검증하기위하여사용되는공정제어도구들은여러가지포맷의미가공데이터를생산합니다。마스크제조시설의데이터관리시스템(数据管理系统,DMS)은이러한데이터를효율적으로활용하여개발주기를감소시키고,레티클제조생산성,수율,품질을높여야합니다。KlearView의데이터통합능력을통해엔지니어들은공정을최적화할수있습니다。이것은생산설비와제조데이터베이스가제공하는여러가지서로다른포맷의데이터를불러와서공통의포맷으로변환하며,이렇게변환된데이터는최신데이터베이스안에통합저장됩니다。이러한데이터통합단계는더욱종합적인관점에서데이터를분석하기위해필요한유연성을마스크생산시설에제공합니다。

공통검토자(常见的评论家)．레티클제조와관련된가장위험한이탈점은공정의후반단계에서발견되는결함들도포함됩니다。각단계사이에측정이없다면이결함들은추적하기가장까다롭습니다。KlearView의중앙집중적데이터관리와첨단분석기술을통해엔지니어들은조기에근본원인을식별하는데필요한진화된결함원인분석과공정간상관관계분석을수행할수있습니다。모든패턴및블랭크검사자들이제공한결함데이터를한장소에모아서,결함뷰어가작업자가의사결정을더쉽게할수있게합니다. .레티클검사、SEM리뷰,설계데이터를동시에확인함으로써종합적인결함처리가가능합니다。

DSA및覆盖분석．缺陷来源分析(DSA)는초반의검사단계에서결함이나타났는지알아내기위하여결함과관련된모든데이터를보여줍니다。DSA는출검품질관리(OQC)와레티클검증검사의경향을확인하는데사용됩니다(예:이전의검사에서문제를일으키지않는결함으로식별된부위에서헤이즈(烟雾)의성장을찾아내는것)。集成电路晶圆厂내에Klarity^®缺陷를연결하여KlearView DSA는마스크제조시설(面具商店)내에서wafer-to-reticle (W2R)변환과반복결함분석을수행할수있습니다。W2R기능은웨이퍼검사를마스크필드뷰로변환하며,이것은웨이퍼——반복결함을레티클결함과매칭하는데사용됩니다。또한KlearView는오버레이분석기능을통해주어진레티클에대한모든검사,계측,리뷰데이터의갤러리뷰를제공하므로,레티클이상진행을확인하는데도움이됩니다。

查询및报告．제조데이터베이스쿼리를KlearView의통합데이터베이스와통합하면레티클과IC제조업체들이종합적인결함보고서를작성하고여러가지검사단계에서공통적으로나타나는결함에대한상세한분석을수행할수있습니다。

KlearView가종합적인마스크성능분석을구현하는방식에대하여더자세히알고싶다면,学报의“光掩模技术和EUV光刻技术”디지털포럼会话9의의프레젠테이션11518 - 21을확인하십시오。

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