原位공정관리
原位공정관리
解放军의SensArray®종합포트폴리오를통해공정툴환경의모니터링및原位인증이가능해집니다。유선및무선센서웨이퍼및레티클,자동화패키지및데이터분석시스템을갖춘SensArray제품은다양한웨이퍼및레티클공정을위한종합정보를제공합니다。웨이퍼공정설비제조업체,IC제조업체및레티클제조업체는공정조건을제어,진단및시각화하기위해SensArray데이터를사용합니다。
카테고리
EtchTemp시리즈
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原位플라즈마식각웨이퍼온도측정시스템
在原位웨이퍼온도측정시스템의EtchTemp시리즈는생산웨이퍼내플라즈마식각공정환경의효과를검출합니다。EtchTemp-HD측정시스템은높은수준의센서밀도를포함하여도체식각애플리케이션을위한CD산포제어와관련있는웨이퍼에걸친온도모니터링을가능하게합니다。EtchTemp-HD무선웨이퍼는제품웨이퍼조건을면밀히표현하는온도조건을특성화하여전공정플라즈마식각챔버의식각공정조건미세조정작업，인증，매칭과PM후검증을하는공정엔지니어를지원합니다。
애플리케이션
공정개발,공정인증,공정툴모니터링,공정툴인증,챔버매칭,공정툴매칭
유전체플라즈마식각(EtchTemp)도체플라즈마식각(EtchTemp-HD, EtchTemp SE-HD, EtchTemp-SE),이온주입| 20 - 140°C
관련제품
EtchTemp SE-HD,고:고출력주파실리콘식각웨이퍼공정의특성화를위한실제공정조건내고해상도시계열및공간온도데이터。
EtchTemp-SE：고출력，고주파실리콘식각웨이퍼공정의특성화를위한실제공정조건내시계열및공간온도데이터。
EtchTemp,고:고출력주파유전식각웨이퍼공정의특성화를위한실제공정조건내시계열및공간온도데이터。
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문의SensArray®자동화
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原位온도측정자동화패키지
SensArray®자동화패키지는공정툴챔버온도측정의신속한자동화콜렉션을제공합니다。해당패키지는오버헤드트랙（OHT）와호완되는FOUP，자동화스테이션，시스템자동화컨트롤러와오피스PC소프트웨어사용권을제공합니다。SensArray FOUP는SPC차트로의직접데이터포팅이가능하며모든생산FOUP와동일한방식으로처리가능합니다。SensArray자동화는공정툴가용성증대，엔지니어링자원활용효율화및的Fab MES데이터베이스내데이터스토리지중앙화를통해개선된생산성을제공합니다。
애플리케이션
공정개발,공정인증,공정툴모니터링,공정툴인증,챔버매칭,공정툴매칭상세한제품상담을원하시나요？
문의Hightemp-400.
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原位박막증착웨이퍼온도측정시스템
hightemp - 400原位웨이퍼온도측정시스템은첨단박막공정과(FEOL및BEOL ALD, CVD및PVD)기타고온공정을최적화하고모니터하기위해설계됐습니다。hightemp - 400무선웨이퍼는공정툴열산포를측정하여실제생산공정조건하에서시계열및공간온도데이터를수집합니다。hightemp - 400은공정윈도우및패터닝성능에영향을주는열변화를나타내어IC제조업체들이신소재,트랜지스터기술및복잡한패터닝기법을통합하는작업을지원합니다。
紫外线웨이퍼
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原位증착및어닐자외선측정시스템
原位紫外웨이퍼자외선(UV)측정시스템은무선센서웨이퍼기술을활용하여자외선양및강도를박막증착공정툴내웨이퍼표면에서측정합니다。이전에는사용할수없었던공정최적화와모니터링이가능해진紫外线웨이퍼는性能유전체박막과FCVD(가류성)산화물질을강화하거나어닐하기위해사용하는紫外线램프에서부터웨이퍼표면에닿는조명의강도에대한시계열및공간정보를제공합니다。紫外线웨이퍼는균일하지않은박막속성에기인하는노후화로인한램프강도의변화또는기타램프강도의변화를파악할수있습니다。紫外线램프하위시스템내광학시스템이슈를강조함에따라紫外线웨이퍼는엔지니어들이최적경화공정에도달할수있도록공정툴개선을주도합니다。
MaskTemp™2
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原位레티클온도측정시스템
MaskTemp™2原位레티클온도측정시스템은전자빔가공기및고온레티클공정단계의모니터링및인증을위해마스크샵에서사용됩니다。마스크를완전히인쇄하려면긴시간（최대24시간）동안극한온도안전성이필요하기때문에MaskTemp 2는전자빔마스크가공기인증과정에서중요한역할을수행합니다。전자빔마스크가공기내에서MaskTemp 2는24시간동안연속적으로온도데이터를수집하고중대한영향을미칠수있는마스크인쇄전에시스템의온도안정성을확보하기위해필요한데이터를마스크제조업체에게제공합니다。또한面膜温度2는후노광베이크특성화，열판온도산포모니터링，열판매칭과기타고온공정애플리케이션을지원하여마스크제조업체가최종레티클품질에영향을줄수있는인쇄후공정온도변화를감소시키고파악하도록도와줍니다。
애플리케이션
전자빔마스크가공인증,공정개발,공정제어,공정인증,공정모니터링,공정툴인증,공정툴매칭
전자빔마스트가공|20-40°C.
후노광베이크| 20 - 140°C
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문의ScannerTemp
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原位스캐너웨이퍼온도측정시스템
ScannerTemp原位웨이퍼온도측정시스템은건조,이머전및EUV光刻스캐너의모니터링을지원합니다。ScannerTemp原位웨이퍼는平엔지니어들이패턴오버레이성능에영향을주는스캐너열변화를특성화하고모니터할수있도록도와주는고정밀시계열및공간웨이퍼온도데이터를생성합니다。평평한표준두께웨이퍼양식을탑재한ScannerTemp는높은정밀도와낮은수준의노이즈로平열산포를모니터링하는데사용가능하며스캐너인증과매칭을지원합니다。
集成晶片™
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原位平웨이퍼온도측정시스템
集成晶片™原位웨이퍼온도측정시스템은平공정을유지하고모니터링하기위한중대한영향을주는열데이터를수집합니다。무선의低调설계를갖춘集成晶片는거의모든平공정설비에사용되며중대한영향을주는생산공정을위한고정밀정적및동적온도측정값을제공합니다。集成晶片는平엔지니어들이운반,가열,냉각및정상상태운영을포함한온도주기부분을분석하고열량산포를특성화하도록도움을제공합니다。集成晶片는첨단平공정에서중대한영향을주는열판히팅존의측정및모니터링등의애플리케이션을지원합니다(예。트랙후노광베이크스테이션)。
WetTemp-LP
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原位습식공정웨이퍼온도측정시스템
WetTemp-LP原位웨이퍼온도측정시스템은습식세정및기타습식공정의모니터링을지원합니다。WetTemp-LP모니터웨이퍼의두께는표준제품웨이퍼두께와동일하여대부분의싱글웨이퍼및분류습식세정공정시스템과호환됩니다。다수의통합온도센서를갖춘WetTemp-LP는풍부한공간온도데이터를제공하여엔지니어가신규습식세정툴을인증하고습식세정공정을최적화하는작업을지원하며습식세정시스템성능개선을도모합니다。
过程调查™1530/1535
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原位웨이퍼온도모니터링시스템
过程探头™1530및1535계측웨이퍼는저온벽，RTP，스퍼터링，CVD，플라즈마스트리퍼와에피택셜반응기를포함한다양한범위의공정에대한原位온도를모니터링하는데사용됩니다。处理探针1530및1535는공정주기의주요단계별로직접적인실시간웨이퍼온도측정값을제공합니다。엔지니어들은종합적인온도데이터를활용하여공정조건을미세조정하고특성화하며이를통해개선된공정설비성능，웨이퍼품질및수율을추진합니다。
Process Probe™1630
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原位웨이퍼온도모니터링시스템
过程探头™1630계측웨이퍼는프론트엔드대기및벨트CVD시스템과백엔드웨이퍼솔더범핑리플로우오븐를위한웨이퍼온도프로파일의정확한原位특성화를가능하게합니다。공정엔지니어들은流程探头1630을사용하여히터존설정값을조정하기위한边缘到中心온도프로파일을정하고히터와벨트에서의산화물증착으로인한열전달변화를조정하기위한증착온도의변화를측정할수있습니다．
Process Probe™1840/1850
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原位웨이퍼온도모니터링시스템
流程探头™1840및1850계측웨이퍼는고정밀실시간열판온도측정을제공하여，감광재트랙시스템및웨이퍼프로버등의공정을지원합니다。处理探针1840및1850은접촉온도센서또는정밀도가낮은공정모니터에의존하지않고웨이퍼온도안전성과산포를직접측정할수있도록합니다。光刻엔지니어들은过程探头1840및1850을활용하여감광재베이크온도산포를미세조정하고특성화할수있으며이를통해첨단光刻공정이높은수율에도달하기위해필요한온도정확도를충족하도록합니다。
애플리케이션
공정개발，공정인증，공정툴인증，공정툴매칭
光刻트랙후노광베이크（PEB），스핀온무반사코팅，백엔드프로버|0-250℃（1840），0-350°C（1850）
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문의PlasmaSuite
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플라즈마데이터분석시스템
PlasmaView
PlasmaView공정분석보기시스템은상세한플라즈마식각공정분석을보기위한직관적인인터페이스를제공합니다。PlasmaView는EtchTemp와EtchTemp-SE에서수집한데이터를활용하여플라즈마공정데이터를시간및공간에대비해서표시합니다(2 d또는3 d)。공정엔지니어들은영화뷰를통해주요과도반응을시각화할수있으며이는결함조사에활용가능합니다。
等离子体控制
PlasmaControl분석엔진은일상작업과챔버투챔버매칭제어및모니터링을지원합니다。복잡한플라즈마식각공정을소수의주요단계로축소하며제어사양과비교하여,단순한“Go”또는'不行'결과를런별로제공합니다。엔지니어들은PlasmaControl를통해추세를관찰하고,공정사고를검측및조사하며플라즈마식각챔버를비교할수있습니다。
애플리케이션
공정개발，공정인증，공정툴인증，공정툴매칭
光刻트랙후노광베이크（PEB），스핀온무반사코팅，백엔드프로버|0-250℃（1840），0-350°C（1850）
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光刻데이터분석시스템
LithoView
LithoView공정분석사용자인터페이스는데이터의2 d및3 d시계열뷰를포함하여표준화된데이터보기역량을제공합니다。LithoView는완전한SensorWafer™커뮤니케이션,미션운영및데이터다운로딩등완전한미션제어역량을엔지니어에게제공합니다。또한LithoView눈완전한데이터이력추적을위한데이터베이스와브라우저를포함합니다。
自动校准TrackTune应用
AutoCal TrackTune첨단소프트웨어애플리케이션은첨단트랙열판을교정하고최적화하는데사용됩니다。해당애플리케이션은SensArray®集成晶片로수집한데이터의정확도를활용하여감광재공정존의온도프로파일을검출합니다。상세한온도프로파일데이터를OEM플레이트별온도모델링엔진과결합하여최적열판제어시스템인풋변수설정을생성합니다。해당최적설정은플레이트내산포를급격히개선시키며플레이트투플레이트온도프로파일을동기화합니다。
애플리케이션
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무선데이터취득및데이터분석
温度图®데이터취득및분석시스템은原位웨이퍼온도측정을지원합니다。热MAP시스템은무선ISIS（지능형센서인터페이스시스템）데이터취득유닛을모든SensArray®계측웨이퍼로부터수집한데이터를분석하고시각화하는강력한그래픽소프트웨어와결합합니다。이러한고도화된웨이퍼온도데이터취득및분석시스템은과동및정상상태측정모두에서우수한정확도,정밀도와해상도를제공합니다。热地图은온도램프업,정상상태및램프다운에대한정확하고유용한그래픽표현을제공함으로써아래툴을활용하여신속한공정최적화를지원합니다。
- 박막두께와저항성맵에대한상관관계를지원하는윤곽및표면맵
- 공정중온도프로파일변화를신속하게볼수있는애니메이션
- 런투런및위드인런분석
애플리케이션
공정데이터분석상세한제품상담을원하시나요？
문의热TRACK™5
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손에들고쓰는무선데이터취득
热TRACK™5데이터취득시스템은연결된SensArray®处理探头™로측정된웨이퍼제품과연관된原位웨이퍼온도측정을지원합니다。热TRACK 5시스템은온도프로필의특성화를위한데이터로그작업및실시간시각화목적으로무선ISIS 5（지능형센서인터페이스시스템）데이터취득유닛을손에들고쓰는개인어시스턴트와결합합니다。램프업，정상상태，쿨다운시의웨이퍼온도에대한유용한그래픽표현을제공함에따라热TRACK 5는대부분의공정을관리하는신속하고비용효율적인방식을제공합니다。이러한휴대용시스템은과도상태및정상상태측정을위한높은수준의정확도，정밀도와해상도를제공하여的Fab엔지니어들이온도설정값을교정하고확인하면사전에정의된예방적유지보수점검을진행하는데필요한필수데이터를제공합니다。