ZFT: Zeta 박막 두께

Zeta-300은30nm에서100μm의의，얇은박막두께측정을위한광대역분광계를합니다。사용자가소재라이브러리에서에서굴절율값을선택단층또는다층스택박막두께측정수수〖〗

ZFT는0.1％의의사율가진샘플등의반사율이가장낮은낮은표면에적용적용。다수의박막두께툴의경우위상변화또는기타변수를산출하는데거울반사광에의존하기때문에이러한표면유형에서신호를확보하기어렵습니다。광대역백색광과수직입사광적용하면하면을반사율이낮은다양다양광학박막에사용할수있습니다。

ZXI: Zeta 수직 주사 간섭측정법

Zeta-300은 간섭측정 대물렌즈와 압전 스테이지 결합 시에 위상천이 주사 간섭측정법(PSI)와 수직주사 간섭측정법(VSI)를 지원합니다. PSI는 옹스트롬에서 수백 나노미터의 스텝 높이를 신속하게 측정하도록 합니다. VSI는 수백 나노미터에서 수백 미크론의 스텝 높이를 신속하게 측정하도록 합니다. 두개의 측정법 모두 대물 렌즈 수차와 상관없이 나노미터 단위 해상도보다 더 나은 성능을 선보입니다.

ZIC: 간섭 대비

zeta-300은노말스키차등간섭현미경을활용하여미세세부이미지를를합니다。노말스키현미경은편광과프리즘을이용하여샘플표면상의경사변화를향상시키기위해변위를변경합니다。이를통해통해오염의의단층의매우매끄러운표면상의결함결함시각화할수수시각화할수수ZIC스캐닝모드는타기법으로측정한조도와조도와구해의상관관계구해이러한이미지를를서브나노단위의조도정량적측정값으로으로변환변환정량적측정측정으로으로변환변환

ZSI：Zeta전단전단간섭측

zeta-300전단간섭측정법（zsi）는위상변화를가하여zic측정을향상시킵니다。이한위상의다수의이미지를를수집한후첨단알고리즘처리하여옹스트롬단위해상도표면형상의정량적측정생성생성생성생성생성이러한기법에는간섭측정가필요없으며z-스테이지스캐닝스캐닝을하지않기때문에옹스트롬에서에서에서의고해상도측정을생성생성생성

대물렌즈

1.25x - 150x정상타겟，긴작동거리타겟，매우긴작동거리타겟와굴조정타겟，관통관통과과，액침타겟와수직주주측정법타겟포함하여다양한대물가제공제공됩니다대물대물됩니다렌즈대물대물대물렌즈대물대물렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈대물렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈렌즈대물대물렌즈렌즈됩니다렌즈렌즈렌즈대물렌즈〗

커플러

zeta-300은광학배율변경하기위해4가지의상이한광학커플러로구성할수。해당해당시스템은기본배율배율유지하기위한위한위한위한커플러로구성하거나을하기하기0.35x，0.5x，或0.63x커플러로구성할수있습니다。

대물렌즈터렛

Zeta-300은자동대물파악위한대물렌즈센서와구성위한또한이시스템은완전히자동화된을위한6포지션의전동터렛으로구성수있습니다。

샘플 조명

Zeta-300은은듀얼고조도led를표준조명사용합니다。패턴사파이어기판（pss）등의다루기어려운투명에대해조명을하기하기을통해통해또한泽塔 - 300은측면다크필드조명을지원합니다。

스테이지

시스템성능을개선하기위해한한이지로지로스테지로지로지로할있습니다있습니다있습니다있습니다。압전z-축스테이지를가하여zdot™또는zxi측정모드로단위스텝높이의측정을위한z해상도를개선수있습니다。Z-스테이지를스위블에탑재하여표면상의입사각을변경하기위해샘플을헤드에서회전할수있습니다。280mm z타워타워를선택적으로탑재하여，폰폰및대형소자부품등의부품을지원할수수대형대형부품을지원할수수XY스테이지는300mm수동이동또는또는150또는200mm의동력동역량으로구성할있습니다있습니다。수동회전스테이지를xy스테이지에가할할있습니다。수동팁과기울기스테이지를추가하여간섭측정을위해스테이지수평을조정할수있습니다。

샘플척

Zeta-300은 애플리케이션 요구사항을 지원할 수 있는 다양한 척을 보유하고 있습니다. 패턴 사파이어 기판에 필요한 투과 조명을 지원하는 투명 기판을 위한 후광 척이 제공됩니다. 300mm를 포함한 다수의 웨이퍼 사이즈를 지원하는 다양한 샘플 척이 제공됩니다. 필요하신 척이 없다면요구사항에대해kla에연락주세요.

제진 테이블

Zeta-300 내에는 수동형 제진 역량이 시스템의 기반에 내장되어 있습니다. 더 나은 제진 역량이 필요한 애플리케이션의 경우 능동형 제진 테이블을 사용할 수 있습니다. Zeta-388은 시스템을 환경 노이즈로부터 분리하고 나노단위 스텝 및 조도를 위한 측정 역량을 개선하기 위해 표준 음향차폐장치 옵션을 보유하고 있습니다.

스텝스텝이및박막두께기준

Zeta-300은 VLSI 기준이 제공하는 얇고 두꺼운 박막의 NIST-추적가능한 스텝 높이 기준을 사용합니다. 표준사항은 크롬 코팅된 식각 쿼츠 스텝을 선보입니다. 8nm에서 250µm의 스텝 높이가 제공됩니다.

인증된 다단 기준은 8, 25, 50와 100µm의 공칭 스텝 높이를 보유하고 있습니다. 표준사항은 XY 교정을 위한 다양한 피치 패턴을 보유합니다. 기준 실리콘 표면과 공칭 270nm 산화 실리콘 박막 두께를 포함한 ZFT를 위한 인증된 박막 두께 표준이 제공됩니다. 기준 조도 및 거울 샘플도 제공됩니다.

자동 시퀀싱 소프트웨어

자동시퀀싱소프트웨어는자동xy스테이지를활용하여사용자가샘플상의상의측정위치를프로그램하도록이시스템은각부위를자동측정사용자정의정의폴더에를저장저장결과결과를요약하기위해위해샘플통계포함포함한결과물결과물보고서생성생성

첨단 시퀀싱 소프트웨어는 샘플을 자동 정렬하는 패턴 인식을 포함합니다. 이를 통해 완전한 자동 측정이 가능해져서 작업자 오류로 인한 영향을 줄일 수 있습니다. 내장 기준을 스테이지에서 사용할 시에 자동 교정을 사용할 수 있습니다.

스티칭 소프트웨어

자동 이미지 스티칭 소프트웨어는 전동 XY 스테이지를 활용하여 단일 시야보다 큰 스티칭된 데이터 세트를 생성하기 위해 인접 스캔을 조합합니다. 시스템은 자동으로 모든 부분을 측정하고 이미지를 정렬하여 한 개의 데이터 세트로 조합합니다. 결과는 기타 결과 파일과 마찬가지로 분석 가능합니다.

Apex 분석 소프트웨어

Apex 분석 소프트웨어는 확장된 평준화, 필터링, 스텝 높이, 조도 및 표면 형상 분석 기법으로 툴의 표준 데이터 분석 역량을 향상시킵니다. Apex는 ISO 조도 산출 방식과 더불어 ASME 등의 현지 기준을 지원합니다. 또한 Apex는 텍스트, 주석과 합/불 기준을 추가할 수 있는 역량을 통해 보고서 작성 플랫폼으로도 사용할 수 있습니다. Apex는 8개 언어를 지원합니다.

오프라인 분석 소프트웨어

Zeta-300 오프라인 소프트웨어는 툴 상에 탑재된 레시피 생성 및 데이터 분석 역량을 동일하게 보유하고 있습니다. 이를 통해 사용자는 소중한 툴 시간을 희생하지 않고 데이터를 분석하며 레시피를 생성할 수 있습니다.