KLA-Tencor增强了新的PROLITH 10光刻优化产品，为32nm设计提供了先进的OPC探测能力

加州圣何塞-- -- -- -

KLA-Tencor(纳斯达克代码:KLAC)今天发布了其行业领先的PROLITH光刻优化产品PROLITH 10的最新版本，使用户能够精确预测32nm集成电路(IC)设计的光刻工艺窗口。凭借PROLITH 10的预测精度，客户已经将昂贵的实验光刻晶圆的运行时间减少了一半，同时也大大缩短了生产周期和上市时间。

“我们的客户发现，如果不准确了解OPC(光学接近校正)对设计的影响，几乎不可能开发出用于32nm设计的光刻配方，”KLA-Tencor工艺分析部门副总裁兼总经理Edward Charrier指出。PROLITH 10将业界最全面的光刻模拟与强大的OPC引擎相结合，因此用户可以将生产质量的OPC效果融入光刻工艺开发中。这是第一次，开发团队可以利用动态勘探模型，自信地设计出最具侵略性或最具成本效益的OPC，因为他们知道，在成熟工艺可用之前，他们可以快速、准确地预测生产结果。”

随着行业采用OPC技术解决亚波长挑战，PROLITH的预测能力不断提升。因此，PROLITH是市场上最值得信赖的工具，全球几乎所有芯片制造商都在使用PROLITH进行前沿工艺的光刻开发，包括32纳米节点的早期开发。PROLITH的最新版本实现了详细的、基于预测模型的OPC，具有下一代形状定义，用于基于浸入式光刻的设计;这提供了在开发周期早期对制造设计(DFM)的洞察力。在过程和OPC应用之间进行实时的权衡，或者OPC和过程的“协同优化”，现在可以使用PROLITH 10了。

作为一个虚拟光刻单元，PROLITH 10为设计师和工艺工程师提供了强大的预测精度，可以快速试验各种光刻工艺、OPC条件和校正，甚至在电阻或扫描仪或其他工具可用到一个新节点之前。由此产生的清晰定义的光刻工艺窗口，可以通过消除几个月的艰苦实验来达到最佳光刻条件，从而大大加快上市时间。

除了IC晶圆厂，PROLITH还被扫描仪供应商、掩模制造商、抗蚀剂供应商和其他光刻工具制造商用于具有成本效益的表征和开发他们的产品。KLA-Tencor是唯一一家提供大量专业校准光刻胶文件的供应商，客户可以使用这些文件快速将OPC结果聚焦于特定的工艺条件;此库将不断更新，以获取最新可用的抗性。

关于KLA-Tencor: KLA-Tencor是全球领先的半导体制造及相关行业的产量管理和过程控制解决方案。公司总部位于美国加利福尼亚州圣何塞市，在全球设有销售和服务办事处。beplay官网ued作为标准普尔500公司beplay官网ued，KLA-Tencor在纳斯达克全球精选市场交易，代码为kac。有关本公司的更多信息，请浏览beplay官网ued//www.lisalozano.com．

来源:KLA-Tencor公司。

2007年2月22日发布