- 整合所有检验、计量和审查系统的数据审查和分析
- 自动对十字线检查员检测到的缺陷进行分类
- 模拟网线检查员检测到的缺陷的晶圆印刷适性
- 分析十字线再确认检查时的雾霾和修理退化情况
- 通过对缺陷航空图像的综合分析,预测晶圆印刷的影响
- 基于掩模SEM图像对EUV缺陷进行分类和模拟
- 为集成LMS IPRO注册测量提供在EUV口罩上预定目标位置/周围的可测量地点
- 优化193nm检查源条件,使EUV内存掩模具有最佳缺陷灵敏度
- 建立精确的电子束图像模型,作为单模十字线修复的参考
- 在单个模具设计数据库中搜索目标位置的重复模式,以用作维修处置的参考