eSL10产品特写镜头

eSL10

革新性的电子束缺陷检测

加速缺陷发现

当今最先进的集成电路是使用复杂的形状和新材料制造的,其结构更小,更窄,更高,更深。这种复杂性要求创新的缺陷检测解决方案。eSL10™电子束图案化的晶圆缺陷检查系统可以捕获并识别其他检测设备未发现的缺陷,从而缩短了解决影响良率或可靠性等关键问题所需的时间周期。通过在芯片制造过程的早期提供对关键缺陷的深入了解,eSL10有助于加快创新型电子产品的上市时间。

创新技术

非凡的缺陷发现始于革命性的设计构架。探索可实现eSL10业界领先的电子束检测性能的突破性技术。

成果

了解eSL10的革命性技术如何解决与先进的3 d NAND, DRAM和逻辑器件制造相关的缺陷挑战。

综合检查组合

eSL10加入了我们的高级检测和检视系统系列,该系统可以检测,识别,为逻辑,DRAM和3 d NAND闪存器件提供从早期研发到批量生产的关键缺陷信息。我们全面的产品组合涵盖了芯片制造环境中全范围的缺陷发现和监控应用程序,产生提供的信息可帮助IC制造商加快生产速度,提高产品质量并提高产量。

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